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        在半导体制造领域,晶片电极表面的质量直接影响器件性能与良率。金相显微镜凭借其高分辨率、大视场、多成像模式以及相对较低的成本,成为晶片电极表面缺陷检测的得力工具。以下是金相显微镜在晶片电极表面缺陷检测中的一些典型应用场景。
(一)硅晶圆金属电极层检测
●背景:硅晶圆在制造晶体管、二极管等器件时,表面会沉积金属层作为电极。
●检测需求:金属层的均匀性、是否存在划痕、凹坑、颗粒等缺陷。

晶片表面
●明场观察:快速获取金属电极层的整体形貌,检查是否有大的划痕或凹坑。

●暗场观察:高对比度检测金属层上的微小颗粒和裂纹,这些缺陷在暗场下呈现亮斑,易于识别。

晶片暗场下观察
●微分干涉(DIC):测量金属层表面的台阶高度和粗糙度,评估电极层的平整度,确保其满足后续工艺要求。

二)功率器件厚铝电极检测
●背景:功率器件如IGBT、MOSFET等,其电极通常较厚且电流承载能力要求高。
●检测需求:厚铝电极的完整性、是否存在裂纹、孔洞以及铝层的致密性。
●金相显微镜应用:

●高倍率观察:使用50×或100×物镜,清晰观察厚铝电极的晶粒结构和晶界,检查晶界处是否有裂纹或孔洞。

●偏振光观察:分析铝层的应力情况,应力集中可能导致器件在使用过程中失效,偏振光下应力区域呈现双折射现象,便于识别。
●图像拼接:对大面积电极区域进行图像拼接,快速获得整个电极层的完整图像,全面评估电极质量。
(三)LED芯片电极检测
●背景:LED芯片的电极负责电流注入,其质量影响LED的光效和寿命。
●检测需求:电极的清晰度、是否有短路风险、电极边缘是否整齐以及是否存在污染物。
●金相显微镜应用:

蔡康MCK-40MC金相显微镜
●高分辨率成像:清晰观察LED芯片电极的精细图案,检查电极线条是否有毛刺、断裂或桥接现象,这些缺陷可能导致芯片短路或电流分布不均。
●测量功能:精确测量电极的宽度和间距,确保其符合设计规格,避免因尺寸偏差导致的性能问题。
(四)射频器件金电极检测
●背景:射频器件如射频放大器、滤波器等,其电极通常采用金材料以保证良好的导电性和抗氧化性。
●检测需求:金电极的连续性、表面粗糙度以及是否有金层脱落。
●金相显微镜应用:
●暗场和DIC结合:在暗场下快速发现金层脱落区域,这些区域在暗场下呈现明显的暗斑;DIC模式下观察金层表面的微观起伏,评估表面粗糙度,确保其满足射频信号传输的低损耗要求。
●高倍率细节观察:检查金电极的边缘是否整齐,是否有金层翘起或剥离现象,这些缺陷可能导致器件在高频信号作用下性能下降或失效。

(五)晶圆级封装(WLP)凸点电极检测
●背景:晶圆级封装技术在晶圆上直接制作凸点作为电极,实现芯片与外部电路的连接。

●检测需求:凸点的形状、尺寸、表面缺陷以及是否有空洞。

●金相显微镜应用:

蔡康MCK-40MC金相显微镜搭配光学冷热台
●3D成像功能(部分金相显微镜具备):获取凸点的三维形貌,精确测量凸点的高度和直径,确保其符合封装要求。
●高倍率观察:检查凸点表面是否有划痕、凹坑等缺陷,这些缺陷可能影响凸点与基板的结合强度。
●透射光观察(对于透明晶圆):观察凸点内部是否有空洞,空洞在透射光下呈现亮点,便于及时发现和剔除不合格凸点,提高封装良率。
结语
金相显微镜在晶片电极表面缺陷检测中发挥着的作用,从常规的硅晶圆金属电极的射频器件金电极,再到晶圆级封装凸点电极,都能提供高效、准确的检测解决方案。随着半导体技术的不断发展,金相显微镜也在不断升级,如更高的分辨率、更多的成像模式以及与其他分析技术的联用,将持续为晶片电极质量检测提供强有力的支持,助力半导体产业提升良率和可靠性。
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